第126章 成本过高的问题，数字掩膜版技术

第126章 成本过高的问题，数字掩膜版技术 (第1/2页)

宏图微电子这边。
　　
　　纪弘和刘向东、王华新两位院士换好了防护服，佩戴专用的手套和鞋套，来到了芯片产线。
　　
　　这个时候，这里已经有条不紊的在进行着各项工作了。
　　
　　光刻机内部各种部件按照既定路线周期性的运动，紫色的光束在在面镜和透镜的作用下或改变形状或改变路线，最终投射到机台上，刻画出图案并完成它最终的使命。
　　
　　从表面上，这里与其他任何的产线也并无不同，尤其是采用尼康光刻机的产线，那布局都几乎都是一模一样的。
　　
　　但刘向东和王华新知道，这里的每一个动作都将被忠实的记录下来，这些数据将成为卷耳智能科技未来光刻机系统各个系统以及EDA各个模块训练AI的养分。
　　
　　“还别说，麻雀虽小，五脏俱全。”王华新也是感叹道：“这里竟然连掩膜版都可以制作。”
　　
　　纪弘也是感叹，要不说程林峰对宏图原老板周光浩的评价并不准确呢，纪弘认为，他还是想做一些事儿的，只是可能由于某种这边不知道的原因不得以放弃了而已。
　　
　　原因是什么并不重要，重要的是设备齐备，上下游产业企业也没有丢，这对纪弘来说，那是省了天大的事儿。
　　
　　“不过，我想的还是天真了。”一圈下来，纪弘也是不断的摇头。
　　
　　“天真什么？”刘向东和王华新几乎异口同声的说道。
　　
　　这几天纪弘在做什么，他们清楚的很，尤其是改造方案还是他们两個根据纪弘的需求联合鼎佳微电子设计和改造的。
　　
　　而且，客户端（也就是设计端）的内测版本的软件他们也见到了——只是描述需求，就能自动化的生成芯片设计各个阶段的方案，简直就是惊为天人。
　　
　　人只需要根据优化建议或者自己的经验进行微调。
　　
　　这节省了多少的工作量啊？
　　
　　与之相比，现在的EDA电子设计自动化软件——还得自己写代码、自己布线、自己设计版图——相比之下简直弱爆了。
　　
　　要说这东西能够颠覆现有芯片设计和EDA产业，可能还为时过早——因为毕竟才刚刚适用于220nm~140nm级别。
　　
　　但这样一个思路一旦打开，AI的能力也在逐步提升，尤其是卷耳智能科技得天独厚的类思维相关AI，未来真的能实现也说不一定。
　　
　　这样的一个成果，纪弘还不满意，他想干什么？
　　
　　“原本我的设想，是想要做成O2O的模式的，”纪弘摇头道：
　　
　　“那边设计一完成，这边掩模制作、晶圆准备、光刻、封装等等一系列流程统统自动进行，随后成品的芯片就发给客户了。”
　　
　　“现在的问题是？”刘向东疑惑道：“这不是已经实现了吗？”
　　
　　“成本过高。”王华新显然对这个领域更熟悉一些：“正常的情况下，掩膜版制作完成之后，后续批量生产芯片时经过清洗等一系列过程是可以复用的。
　　
　　“如果按照纪总的这种思路，一方面是掩膜版的利用太低了，而掩膜版的制作费用很高。尤其是先进制程，制版费用甚至能占到芯片成本的12%~15%，如果需求低，也是不划算的。
　　
　　“另一方面，你也看到了，掩膜版的制作其实很复杂很耗时，时间上也是问题。”
　　
　　刘向东虽然对此没有研究，但大批量的生产能够节省成本，这在很多领域都是适用的——哪怕玩具都是这样，不管生产多少，开模的成本都是不会变的，是要均摊到每一个产品上，产量小，平均成本当然就高了。
　　
　　

（本章未完，请点击下一页继续阅读）